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集成电路大规模生产工艺技术可行性研究报告

  • 20231225785
  • 2023-12-25
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报告内容摘要
报告简介:
12英寸65nm、45/40nm、32//28nm成套公益平台开发;模拟、数模混合、MEMS、射频、功率器件等特色工艺技术。

1、集成电路大规模生产工艺技术简介

1.1.技术定义

12英寸65nm、45/40nm、32//28nm成套公益平台开发;模拟、数模混合、MEMS、射频、功率器件等特色工艺技术。


1.2.主要应用产品

集成电路大规模生产先进工艺技术主要用于大规模集成电路。

通常指含逻辑门数为100门~9999门(或含元件数1000个~99999个),在一个芯片上集合有1000个以上电子元件的集成电路。采用一定的工艺,把一个电路中所需的晶体管、二极管、电阻、电容和电感等元件及布线互连一起,制作在一小块或几小块半导体晶片或介质基片上,然后封装在一个管壳内,成为具有所需电路功能的微型结构;其中所有元件在结构上已组成一个整体。


1.3.技术特点

主要应用

技术特点

大规模集成电路

单个元器件的精度不高,受温度影响也较大;集成电阻及电容的数值范围窄;元器件性能参数的绝对误差比较大;纵向NPN管β值较大

2、产业链图示

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3、市场规模

(单位:亿元)

中国集成电路下游终端产品市场规模

中国集成电路产值

 

中国集成电路下游终端产品市场规模

中国集成电路产值

2011年

36122.47

2205.9

2014年

55272.73

3320.80

2012年

41212.12

2543.4

2015年

66327.27

3818.92

2013年

46060.61

2836.42

2020年

165043.5

7681.21

数据来源:国家统计局,据统计,中国集成电路销售额复合增长率为24%,预计未来以不低于20%的增速发展。


4、技术发展水平

4.1技术难度

①在IC设计方面,设计企业缺乏工艺知识,也没有定制和修改工艺参数的能力。

②先进工艺节点的NRE费用(一次性工程费用)急剧攀升,只有通过扩大销量才能分摊前期成本。有估计认为,研发一颗16nm的芯片需要投入15亿美元,必须销售3000万颗才能收回成本。受限于工艺,很难在单个硅片上集成异质器件,封装将向组装(Assembly)演进,芯片设计必须与组装结合。


4.2技术成熟度

部分集成电路大规模生产工艺整体技术达到国际先进水平,打破了发达国家对集成电路用高端靶材的垄断。


4.3产业化的水平

①产业化水平为80%。

②以集成电路为核心的电子信息产业目前超过了以汽车、石油和钢铁为代表的传统的工业成为第1大产业,成为改造和拉动传统产业迈向数字时代的强大引擎。

③超大规模集成电路研制成功,带动了军事技术和民用技术的发展,已成为衡量一个国家科学技术和工业发展水平的重要标志。集成电路的集成度和产品性能每18个月有一倍的增加。


4.4替代技术简析

在关键技术上,集成电路大规模生产工艺技术为核心技术,替代性很低。


5、国内外技术发展对比

5.1国内外技术差距

①中国技术与国外技术仍有7年差距。

②国内设计业水平基本与国外同步,达到了28nm,但很多关键芯片几乎全部进口,工艺技术进步严重滞后,很多关键芯片,如桌面、便携式计算机、高性能服务器、高端网络设备用芯片几乎全部为进口。

③在新建的生产线上,使用单位有较大的风险,在与进口设备的竞争中,国产设备很难挤得上去。


5.2国内外主要厂商

国内主要厂商

国外主要厂商

欧比特,有研硅股,中国软件,士兰微,华天科技,上海贝岭,通富微电,长电科技等

摩托罗拉公司,美国优斯(URS)集团,阿卡特公司,美国微系统公司等



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